等離子清洗機是一種干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。它是用工作氣體在電磁場的作用下激發(fā)出等離子體與物體表面產(chǎn)生物理和化學反應(yīng)，從而達到清洗的目的。
 

　　超聲波清洗利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的。目前所用的超聲波清洗機中，空化作用和直進流作用應(yīng)用得更多。
 

　　等離子清洗不需要其他的原料，只要空氣就能夠滿足要求，使用方便而且沒有污染。
 

　　兩者的應(yīng)用，原理不一樣，清洗的效果也有區(qū)別，超聲波清洗主要提高產(chǎn)品表面的潔凈度，而等離子清洗主要提高產(chǎn)品表面的附著力， 兩者不可相互替代的。

 

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基)；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
 

　　給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當?shù)竭_等離子狀態(tài)時，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來的氣體分子。與濕法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中為*的剝離式的清洗方式。
 

　　等離子清洗機并不是什么臟東西都能洗掉，它是比較針對性的去除某些物質(zhì)和材料表面改性處理。
 

　　“洗表面”才是等離子清洗機技術(shù)的核心，“洗表面”跟電漿機和等離子表面處理設(shè)備這兩個名字密切相連。簡單的來說清洗表面就是在被處理材料表面打出無數(shù)個肉眼看不到的小孔，同事在表面形成了一個新的氧化層薄膜。這樣以來大大的增加了被處理的表面積，間接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸潤性、擴散性等等。而這些性能又恰當?shù)膽?yīng)用在手機、電視、半導體、醫(yī)療、航空、汽車等行業(yè)中，為眾多企業(yè)解決多年未曾解決的難題。